当前位置:静雅生活网 > 数码百科 >

铠侠NIL半导体工艺最新消息

导读:铠侠也将开发自己家的半导体工艺,并且据说是不通过EUV光刻机的,不知道这是什么技术,光看着是挺牛逼的,下面就一起来了解一下铠侠NIL半导体工艺最新消息。

  网友提问:

  铠侠NIL半导体工艺最新消息

  优质回答:

  铠侠也将开发自己家的半导体工艺,并且据说是不通过EUV光刻机的,不知道这是什么技术,光看着是挺牛逼的,下面就一起来了解一下铠侠NIL半导体工艺最新消息。

  在半导体工艺进入10nm节点之后,EUV工艺是少不了的,但是EUV光刻机价格高达10亿一台,而且产量有限,导致芯片生产成本很高。日本铠侠公司现在联合伙伴开发了新的工艺,可以不使用EUV光刻机,工艺直达5nm。

  据据日媒报导,铠侠从2017年开始与半导体设备厂佳能,以及光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作,在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发纳米压印微影技术(NIL)的量产技术,铠侠已掌握15nm量产技术,目前正在进行15nm以下技术研发,预计2025年达成。

  与目前已实用化的极紫外光(EUV)半导体制程细微化技术相比,NIL更加减少耗能且大幅降低设备成本。

  因NIL的微影制程较单纯,耗电量可压低至EUV生产方式的10%,并让设备投资降低至40%。

  而EUV设备由ASML独家生产供应,不但价格高,且需要许多检测设备配合。

  目前NIL在量产上仍有不少问题有待解决,包括更容易因细微尘埃而形成瑕疵等问题。

  如果铠侠能成功率先引进NIL量产技术,可望弥补在设备投资竞赛中的不利局面,又能符合减少碳排放的需求。

  对铠侠来说,NAND组件采取3D堆叠立体结构,更容易因应NIL技术的微影制程。

  铠侠表示,已解决NIL的基本技术问题,正在完善量产技术,希望能率先引入NAND生产。

  根据DNP说法,NIL技术电路精细程度可达5nm,DNP从2021年春起,根据设备的规格值进行内部仿真。

  DNP透露,从半导体制造商询问增加,显示不少厂商对NIL技术寄予厚望。

  而佳能则致力于将NIL技术广泛应用于制作DRAM及PC用CPU等逻辑IC的设备,供应多种类型的半导体制造商,将来也希望能应用于手机应用处理器等最先进制程。

  铠侠NIL半导体工艺最新消息

版权声明:本文部分来自互联网,由小编精心所写,本文地址:http://www.zhubian88.cn/smbk/23589.html,如需转载,请注明出处!

联系我们

在线咨询:点击这里给我发消息

微信号:weixin888

工作日:9:30-18:30,节假日休息