EUV 光刻机也搞不定的 1nm 以下芯片制程用它秒解决 可做到 0.768nm
来源:静雅生活网 作者:宋亦武发布时间:2022-10-01 15:13阅读次
导读:众所周知,目前 5nm 及以下的尖端半导体制程必须要用到价格极其高昂的 EUV 光刻机,ASML 是全球唯一的供应商。 更为尖端 2nm 制程的则需要用到 ASML
众所周知,目前 5nm 及以下的尖端半导体制程必须要用到价格极其高昂的 EUV 光刻机,ASML 是全球唯一的供应商。
更为尖端 2nm 制程的则需要用到 ASML 新一代 0.55 NA EUV 光刻机,售价或高达 4 亿美元。
Intel 正计划利用新一代 0.55 NA EUV 光刻机来开发其 Intel 20A(2nm)及 18A(1.8nm)制程。但是,要想实现 1nm 以下的更先进的制程,即便是 ASML 新一代 0.55 NA EUV 光刻机也束手无策。
近日美国一家旨在开发和商业化原子精密制造 ( APM ) 技术的公司 Zyvex Labs 宣布推出了全球分辨率最高的亚纳米分辨率光刻系统 "ZyvexLitho1"。
它并没有采用 EUV 光刻技术,而是基于 STM 扫描隧道显微镜,使用的是电子束光刻(EBL)方式,可以制造出具有 0.768nm 线宽(相当于 2 个硅原子的宽度)的芯片,精度远超 EUV 光刻机
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