EUV 光刻机也搞不定的 1nm 以下芯片制程用它秒解决 可做到 0.768nm

导读：众所周知，目前 5nm 及以下的尖端半导体制程必须要用到价格极其高昂的 EUV 光刻机，ASML 是全球唯一的供应商。　　 更为尖端 2nm 制程的则需要用到 ASML

　　 众所周知，目前 5nm 及以下的尖端半导体制程必须要用到价格极其高昂的 EUV 光刻机，ASML 是全球唯一的供应商。

　　 更为尖端 2nm 制程的则需要用到 ASML 新一代 0.55 NA EUV 光刻机，售价或高达 4 亿美元。

　　 Intel 正计划利用新一代 0.55 NA EUV 光刻机来开发其 Intel 20A（2nm）及 18A（1.8nm）制程。但是，要想实现 1nm 以下的更先进的制程，即便是 ASML 新一代 0.55 NA EUV 光刻机也束手无策。

　　 近日美国一家旨在开发和商业化原子精密制造 ( APM ) 技术的公司 Zyvex Labs 宣布推出了全球分辨率最高的亚纳米分辨率光刻系统 "ZyvexLitho1"。

　　 它并没有采用 EUV 光刻技术，而是基于 STM 扫描隧道显微镜，使用的是电子束光刻（EBL）方式，可以制造出具有 0.768nm 线宽（相当于 2 个硅原子的宽度）的芯片，精度远超 EUV 光刻机